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研究院研发出具有抗浓度淬灭效应的双核多重共振热激活延迟荧光材料
来源: | 作者:南大马鞍山 | 发布时间: 2025-04-23 | 461 次浏览 | 分享到:

有机电致发光器件(OLED)在生活中得到了广泛应用,逐步取代液晶成为显示的主流。但用于超高清显示技术的OLED对其发光材料的光谱宽度需求由较高要求,并可以借此显著提升终端显示效果。具有窄谱带发射特性的多重共振型热激活延迟荧光(MR-TADF)材料在过去十年间取得了显著进展,器件效率逐步提高。但由于多数MR-TADF材料具有刚性的平面结构和较长的三线态激子寿命,相应的OLED常具有严重的效率滚降。

最近,研究院的科研团队分别将两个叔丁基咔唑硼单元(DtBuCzB)引入到二氯二甲基硅烷和二氯二苯基硅烷中,开发了两个通过二甲基硅基和二苯基硅基连接的MR-TADF材料:DMeSiBDPhSiB。两个材料在甲苯中表现出窄谱带发射,半峰宽(FWHM)分别为2122 nm,在 5%(质量分数)的掺杂薄膜中,其光致发光量子产率超过 90%。研究表明,引入四面体硅基基团减少了分子间的聚集,抑制了光谱展宽。此外,基于DMeSiBD-DMeSiB)和DPhSiBD-DPhSiB)的OLED表现出良好的性能,在5%的掺杂浓度下,最大外量子效率(EQEmax)分别为27.2%28.6%CIE色坐标分别为(0.070.50)和(0.080.53)。即使在20%的高掺杂浓度下,电致发光光谱(EL)的FWHM也仅为27 nm。正如预期的那样,即使是较高的掺杂浓度范围内,器件都能保持高性能。当掺杂浓度从10%20%时,D-DMeSiBEQEmax值分别保持在23.5%21.4%19.2%D-DPhSiBEQEmax值分别保持在24.9%22.7%19.3%,这进一步验证了该设计策略在减轻浓度猝灭方面的有效性。


该工作以“Dual-Core and Quenching Resistance of Silicic Linkage-Based Multiple Resonance Thermally Activated Delayed Fluorescence Emitters”为题发表于Adv. Opt. Mater. (2025, DOI: 10.1002/adom.202403139)


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